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TFX4000OCD
TFX4000OCD——光学关键尺寸量测 光学关键尺寸量测产品基于光学膜厚量测平台,搭载自主研光学关键尺寸量测产品基于光学膜厚量测平台,搭载自主研发算法功能,可应用于显影后检查(ADI)、刻蚀后检查(AEI)等多种工艺段的二维或三维样品的线宽、侧壁角度(SWA)、高度(Height)/深度等关键尺寸(CD)特征或整体形貌测量。
TFX4000E
TFX4000E——薄膜厚度测量设备 l 可量测多种材料薄膜 l 提供薄膜可靠和精确的厚度、折射率、成分比率和应力测量 l 输出产能高,具有较高的性价比 l 可量测范围更宽广,超厚膜和超薄膜量测能力更稳定 l 全新椭圆偏振光路设计 l 机械运动性能可靠,稳定性表现卓越
TFX4000i
TFX4000i——薄膜厚度测量设备 l 可量测多种材料薄膜 l 提供薄膜可靠和精确的厚度、折射率、成分比率和应力测量 l 输出产能高,具有较高的性价比 l 可量测范围更宽广,超薄膜量测能力更稳定 l 机械运动性能可靠,稳定性表现卓越 l 功能丰富、易用的软件和算法 l
TFX3000P
TFX3000P——薄膜厚度测量设备 l 可量测多种材料薄膜 l 提供薄膜可靠和精确的厚度、折射率、成分比率和应力测量 l 低持有成本(COO),输出产能高,具有极高的性价比 l 机械运动性能可靠,稳定性表现卓越 l 功能丰富、易用的软件和算法 l 全面支持工厂自动化要求